Wzór kodu binarnego programowania komputerowego Matrix, bluza z kapturem unisex dla dorosłych, odzież programistyczna, entuzjasta technologii, styl programisty

Odkryj świat cyfrowy z naszą bluzą z kapturem z nadrukiem Matrix Binary Computer Programming Code Pattern, idealną dla programistów i entuzjastów technologii świętujących urodziny lub hackathony 👨‍💻. Wykonana z mieszanki poliestru z recyklingu, z miękką bawełnianą stroną wierzchnią, szczotkowanym polarem od wewnątrz, elastycznym elastanem i wytrzymałymi owerlokowymi szwami dla najwyższego komfortu i trwałości. Ekologiczne, certyfikowane materiały gwarantują trwały styl. Zamów swoją już dziś!

Prezenty dla: programistów 👨‍💻, programistów, twórców oprogramowania, entuzjastów technologii, hakerów 🔒, informatyków, profesjonalistów IT, fanów gier 🎮, miłośników liczb binarnych, miłośników Matrixa, prezentów urodzinowych 🎂, prezentów świątecznych 🎄, Dnia Ojca, prezentów z okazji ukończenia szkoły 🎓, nagród za hackathony, niespodzianek rocznicowych, sekretnego Mikołaja w biurze, hobbystów robotyki 🤖, ekspertów ds. cyberbezpieczeństwa, analityków danych

Ta wygodna bluza z kapturem unisex ma miękką warstwę zewnętrzną z żywym nadrukiem i jeszcze bardziej miękką, szczotkowaną podszewkę z polaru. Bluza ma luźny krój i idealnie nadaje się do otulenia się nią w chłodne wieczory.

• 96% poliestru z recyklingu, 4% elastanu do produkcji w USA/Meksyku
• 95% poliestru z recyklingu, 5% elastanu do produkcji na Łotwie
• Gramatura materiału (może się różnić o 5%): 9,08 uncji/yd.² (308 g/m²)
• Miękka, bawełniana tkanina wierzchnia
• Wnętrze wykonane z szczotkowanej tkaniny polarowej
• Kaptur z podwójną podszewką i wzorem po obu stronach
• Styl unisex
• Posiada ściągacze
• Szwy overlockowe
• Komponenty do produkcji pustych produktów w Meksyku pochodzą z Polski i Meksyku
• Czyste komponenty produktu w UE pochodzące z Chin i Polski

Zastrzeżenie: W miejscach, w których materiał jest dwuwarstwowy (np. kieszenie), detale z wewnętrznej warstwy materiału mogą delikatnie prześwitywać, szczególnie w przypadku lżejszych wzorów.